微电子工业中清洗工艺的研究进展
【相关摘要】简要介绍了硅片表面污染物杂质的类型,综述了传统湿法清洗及干法清洗对硅片表面质量的影响,以及近年来清洗技术和理论的研究发展及现状;同时,阐述了污染物检测方法的研究进展;最后,对今后微电子清洗工艺的发展方向进行了展望。
关键词 半导体工艺;湿法清洗;干法清洗;检测
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